很多朋友對半導體超純水設備并不是很了解，但是半導體超純水設備在工業的運用越來越方法，例如液晶顯示屏的清洗，半導體物件的清洗，線路板焊接用水等在制造過程中都要用到半導體超純水設備，下面是小編整理的有關半導體超純水設備的介紹。

　　傳統的超純水設備是電滲析、離子交換器(陽床、陰床、復床、混床)。我們生產的新型半導體超純水設備是EDI(連續電除鹽技術)設備，可以有效的去除水中幾乎全部的陰陽離子，出水電阻率可穩定在15MΩ.CM以上，連續運行、無化學污染、水的利用率高，在超純水制備工藝上有著強大的優勢廣闊的應用前景。

　　所以EDI+反滲透設備適合于工業高純水，醫用超純水，電子反滲透純水系統,電子工業用超純水系統,電鍍工業用超純水系統,實驗室用超純水,食品飲料用超純水,生物工程超純水,制造業用超純水。

半導體行業用超純水設備主要應用于半導體行業用水，該設備主要由預處理、反滲透、EDI模塊和后處理裝置組成，可以有效去除原水中的懸浮物、膠體、細菌、金屬離子等雜質，出水電阻率可以達到18兆歐以上，完全滿足半導體行業用水需求。

　　半導體行業用超純水設備工藝

　　1、預處理-反滲透-水箱-陽床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

　　2、預處理-一級反滲透-加藥裝置(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　3、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　4、預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制拋光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象(新工藝)

　　半導體行業用超純水設備特點

　　1、整體化程度高、易于擴展、增加膜數量即可增加處理量。

　　2、自動化程度高，遇故障立即自停，具有自動保護功能。

　　3、膜組件為復合膜卷制而成，表現出更高的溶質分離率和透過速率。

　　4、能耗低、水利用率高、運行成本低。

　　5、結構合理，占地面積少。

　　6、先進的膜保護系統，在設備關機，淡化水可自動將膜面污染物沖洗干凈，延長膜壽命。

　　7、系統無易損部件，無須大量維修，運行長期有效。

　　8、設備設計有膜清洗系統用阻垢系統。

　　半導體行業用超純水設備性能優勢明顯，能夠連續穩定的制備品質優良的超純水，不會因為樹脂再生而停止運行，超純水裝置結構設計相對靠緊，占地面積小，可以為企業節省很多空間。

　　以上是關于半導體超純水設備的介紹，相信大家在看完此文章后對半導體超純水設備會有進一步的了解，從上面的介紹中我們可以看出半導體超純水設備因不同的情況，工藝流程也會有所不同。